摘要：光刻机采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。那么光刻机性能指标是什么呢？光刻机性能指标是什么1、光刻机的主要性...

光刻机采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。那么光刻机性能指标是什么呢？

光刻机性能指标是什么

1、光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

2、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

3、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

4、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

5、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。